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胡锦涛主席听取曹祥东博士关于超高精度色散管理技术的汇报

2012-06-08

2011年6月2日下午四点,中共中央总书记、国家主席、中央军委主席胡锦涛莅临武汉光电国家实验室(筹)考察,听取实验室的科技成果汇报,勉励科研人员取得更多原创性科研成果。 

胡锦涛主席考察了基于SOA的无源光网络接入扩容与距离延伸技术、超高精度色散管理技术、LED封装技术、大功率光纤激光器、纳米压印技术、相变存储器、生物显微层析成像等技术成果。每到一处,胡锦涛主席都仔细听取科研人员的研究成果汇报,看实验、问原理、话应用,了解最新科研进展。 

在曹祥东博士主持的“超高精度色散管理技术”项目前,胡锦涛主席听取了曹祥东博士的汇报,该项技术成果能够对现有的光纤网络10倍地升级,不需重新施工铺设新光纤,并能大大降低系统的能耗和成本,性能处于世界领先水平。胡锦涛仔细询问有关知识产权方面的情况,在获知曹祥东课题组已经有20余项相关专利技术,而且全部器件都是国产后,勉励他要继续增强创新能力,要拥有中国自己的知识产权。 

考察中,总书记特别强调,科技创新,人才为先。进一步聚集人才、培养人才,更好地发挥创新型科技人才的作用,努力在光电领域取得更多原创性科研成果,为中国光电领域的发展作出更大的贡献。 

陪同考察的中央和省市领导有:中共中央书记处书记、中央办公厅主任令计划,中共中央书记处书记、中央政策研究室主任王沪宁,国家发展和改革委主任张平,水利部部长陈雷,胡锦涛总书记办公室主任陈世炬;湖北省委书记李鸿忠、省长王国生等省领导;武汉市委书记阮成发、武汉市市长唐良智等。校领导路钢、李培根等陪同考察。

 

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